】中國官媒報導，中國 SMEE 上海微電子裝備集團將於年底推出首款先進 28nm 的國產光刻機，官媒表示這標誌著中國自主研發道路上跨出一大步，突破美國主導的打壓和圍堵下的重大勝利！這台 28nm 國產浸沒式光劇機型號為 SSA/800-10W，預計 2023 年底能正式交付，之前 SMEE 主要是提供 90nm 生產設備，這次提升至 28nm 絕對是突破性發展。
SMEE 副理事長何榮明曾表示，中國專家出國考察時，一些外國工程師說：「即使我們給你所有的圖紙，你也不一定能生產出光刻機」。
回國後，SMEE 團隊經過五年的研發，在關鍵的曝光工藝上取得了重大突破。
據了解，SMEE 成立於 2002 年，是中國領先的光刻機製造商之一，約佔國內市場 80% 的份額。路透社稱該公司是荷蘭世界領先光刻機製造商 ASML 的中國唯一潛在競爭對手。
